ASML艾司摩爾的EUV機台成摩爾定律救星，台積電採用浸潤式ArF深紫外光（DUV）微影設備，讓台積電第一代7奈米製程出世，也藉此拉開與三星電子的差距⋯
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ASML 強在哪？其實，ASML 不僅寡佔了 #EUV 設備市場，也同時主導著 #浸潤式微影系統，這可說是 #DUV 設備市場中，價格偏高、獲利率最高的設備市場區塊。
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ASML表示不需美國批准 DUV微影機可賣給中國
ASML在沒有美國許可證的情況下，仍能從荷蘭出口DUV微影機至中國。至於更先進的EUV微影機則無法出口至中國，因為EUV微影機的相關技術或零件是從美國出口的，因此需要美國批准。
但是，DUV微影機是無法生產14nm或更小的晶圓。（準確地說，液體浸潤式（liquid immersion）DUV在多次曝光後是可以生產7nm晶圓的，但良率低且不穩定），要突破14nm就要靠EUV微影設備。....
duv浸潤式 在 [閒聊] 美國打算連DUV也不給中國了- 看板PC_Shopping 的八卦
針對全球性的晶片缺貨問題，美國拜登政府才在 14 日邀集包括美國歐半導體設備大廠，汽車製造廠商、以及台灣台積電與南韓三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議，以討論解決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。
而在此同時，南韓媒體報導，面對中國積極發展半導體產業的態度，美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光 （EUV） 曝光機的出口到中國，恐怕連浸潤式 ArF 深紫外光 （DUV） 曝光設備都將被列入禁止出口中國品項。
南韓媒體 《BusinessKorea》 的最新報導指出，美國拜登政府為限制中國在半導體產業中的地位，日前由美國國家人工智慧安全委員會提出了一項政策，希望禁止向中國出口包括浸潤式 ArF 深紫外光的曝光機在內的半導體製造設備。
而如果一旦這項計畫付諸施行，則目前在中國設有大型晶圓廠的三星與 SK 海力士等南韓記憶體大廠擔心，未來將可能受到進一步的衝擊。
而如果美國政府決定禁止包括浸潤式 ArF 深紫外光曝光機在內的更多半導體設備出口到中國，則目前在中國設有大型晶圓廠的南韓三星與 SK 海力士兩家執記憶體市場牛耳的廠商，擔心其在中國的投資將會受到衝擊。
目前，三星在中國西安設有生產記憶體的晶圓廠，目前正在生產第 6 代 3D V-NAND。而 SK 海力士則是將工廠設在中國無錫，目前該工廠也在生產 10 奈米級的 DRAM。而在三星與 SK 海力士在中國的工廠中，目前都採用到了浸潤式 ArF 深紫外光曝光機。
報導進一步指出，目前中國政府正在與三星討論，希望三星能及早完成在西安工廠相關投資。另外，在 SK 海力士的方面，面對當前全球晶片缺貨的情況，SK 海力士在中國無錫工廠也正開始的相關的晶圓代工計畫。
因此，如果未來美國政府進一步收緊對中國出口半導體設備的情況，有中國學者認為，美國將很難准許南韓企業在中國使用具備美國技術的半導體設備。因此這對兩家公司來說，在未來製造技術的發展上，恐將面臨很大的麻煩。
https://finance.technews.tw/2021/04/13/u-s-fears-further-restrictions-on-duv-exports-to-china/
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