【奈米關鍵技術,極紫外光微影技術如何運作?】
極紫外光EUV是近年不斷提到的微影製程名稱,也是現今能在晶片上畫出最精密線路的光罩技術。半導體製程中微影(Lithography)是驅使晶片效能更高、成本更低的關鍵技術。早期晶片可以容納數千個微米大小的電晶體(Transistor),目前最先進的晶片則是由數十億個電晶體組成的複雜網絡,其中最小的只有10奈米。究竟微影技術是什麼?在神秘的半導體無塵室該如何進行?
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